[发明专利]一种基于多波长并发重建的荧光分子断层成像方法及系统有效
| 申请号： | 202011607808.8 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112734872B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 王慧泉;冯天姿;赵喆;繆竟鸿 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00;G06T7/66;G06N3/04 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 王爱涛 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于多波长并发重建的荧光分子断层成像方法及系统。该方法包括：获取待成像组织内部光源的分布信息；根据分布信息，基于扩散方程和有限元剖分方法，建立多光子在待成像组织的正向传输模型；根据正向传输模型获取待成像组织在不同波长下的荧光光强值；根据不同波长下的荧光光强值，采用并发波长重建算法和主成分分析法确定扩增维度后的荧光光强值数据集；并将荧光光强值数据集划分为训练数据集和预测数据集；对栈式自编码神经网络模型进行训练，确定异质体预测模型；采用异质体预测模型确定荧光产率值；根据荧光产率值确定异质体荧光产率重建图像。本发明有效解决FMT成像过程中的病态逆问题，大幅度提高成像精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 波长 并发 重建 荧光 分子 断层 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
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