[发明专利]发光元件及其制造方法在审
| 申请号： | 202011601703.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN113130713A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 林哲弘;郭得山 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/46 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种发光元件及其制造方法，其中该发光元件制造方法包含：提供一基底，包含一上表面以及一下表面；形成一半导体叠层于上表面；移除部分半导体叠层形成一暴露区环绕半导体叠层；形成一介电材料叠层覆盖半导体叠层以及暴露区；以及以一激光照射基底，激光具有一第一波长；其中，介电材料叠层对于第一波长具有10％～50％的反射率及/或50％～90％的穿透率。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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