[发明专利]下电极组件和包含下电极组件的等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202011601453.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114695048A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 黄国民;江家玮;郭二飞;吴狄 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种下电极组件及其包含下电极组件的等离子体处理装置，其中，所述下电极组件包括：基座；静电夹盘，位于所述基座上，用于吸附待处理基片，其材料为陶瓷非金属材料；气体输送管道，贯穿所述基座，用于输送气体；气体扩散腔、气体入口和气体出口，设于所述静电夹盘内，来自于所述气体输送管道内的气体通过气体入口进入气体扩散腔，再经所述气体扩散腔扩散后通过气体出口输出至待处理基片的背面。所述等离子体处理装置能够防止电弧放电。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 组件 包含 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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