[发明专利]一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202011593563.8 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114695615A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 潘革波;周全 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | H01L33/22 | 分类号： | H01L33/22;H01L33/00;G01N21/65 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法和应用，所述表面增强拉曼散射基底包括依次层叠设置的光源层、半导体衬底层以及拉曼散射材料层。本发明在基底中引入原位光源层，实现拉曼散射的原位增强，能够提升基底的光利用率，表面增强效果更好，具有较高的稳定性、灵敏度和重现性，能够满足多种需求的拉曼散射器件，且制备工艺简单，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 增强 散射 基底 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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