[发明专利]一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备在审

专利信息
申请号: 202011510439.0 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112695289A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 孟灵灵;黄新民;汪诚威;敖翔 申请(专利权)人: 盐城工学院
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35;C23C14/58
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 224051 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备,包括壳体、薄膜和箱体,所述壳体的内侧设置有第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷,所述壳体的内侧固定连接有三个安装座,每个所述安装座的内表面设置有靶电极,三个所述安装座分别位于所述第一导辊、第二导辊和第三导辊的外侧,所述薄膜分别与第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷接触,所述壳体上开设有两个对称分布的通槽,所述薄膜分别穿过两个通槽且延伸至壳体的外侧,本发明涉及一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备,具有提高薄膜质量以及加快成品的特点。
搜索关键词: 一种 多靶材 双面 镀膜 磁控溅射 卷绕 设备
【主权项】:
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