[发明专利]一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备在审
| 申请号: | 202011510439.0 | 申请日: | 2020-12-18 |
| 公开(公告)号: | CN112695289A | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
| 发明(设计)人: | 孟灵灵;黄新民;汪诚威;敖翔 | 申请(专利权)人: | 盐城工学院 |
| 主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 224051 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 多靶材 双面 镀膜 磁控溅射 卷绕 设备 | ||
本发明公开了一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备,包括壳体、薄膜和箱体,所述壳体的内侧设置有第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷,所述壳体的内侧固定连接有三个安装座,每个所述安装座的内表面设置有靶电极,三个所述安装座分别位于所述第一导辊、第二导辊和第三导辊的外侧,所述薄膜分别与第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷接触,所述壳体上开设有两个对称分布的通槽,所述薄膜分别穿过两个通槽且延伸至壳体的外侧,本发明涉及一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备,具有提高薄膜质量以及加快成品的特点。
技术领域
本发明属于磁控溅射技术领域,具体为一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备。
背景技术
磁控溅射是在真空中利用高能粒子轰击靶表面,使被轰击溅射出的靶离子沉积在基片上。溅射时,气体被电离之后,气体离子在电场的作用下飞向电极靶材,并以高能量轰击靶表面,使靶材料发生溅射,溅射出的靶粒子沉积在衬底上。磁控溅射包括多种类型,各有不同的工作原理和应用对象,但是目前磁控溅射后存在一些问题:1、靶材料在薄膜表面附着的不够强力,容易起鼓;2、成品后需要时间冷却,效率缓慢。因此,需要设计一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备。
发明内容:
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备,解决了背景技术中提到的问题。
为了解决上述问题,本发明提供了一种技术方案:
一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备,包括壳体、薄膜和箱体,所述壳体的内侧设置有第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷,所述壳体的内侧固定连接有三个安装座,每个所述安装座的内表面设置有靶电极,三个所述安装座分别位于所述第一导辊、第二导辊和第三导辊的外侧,所述薄膜分别与第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷接触,所述壳体上开设有两个对称分布的通槽,所述薄膜分别穿过两个通槽且延伸至壳体的外侧。
作为优选,所述壳体的外部固定连接有顶板,所述顶板的底部固定连接有抵压座,所述抵压座的内侧壁设置有两个对称分布的滑轨,每个所述滑轨的内部滑动连接有滑轮,两个所述滑轮之间固定连接有移动座,所述移动座的底部固定连接有两个对称分布的连接块,两个所述连接块之间转动连接有压辊,所述压辊与薄膜接触,所述抵压座的内侧固定连接有第一弹簧,所述第一弹簧的一端与抵压座的内表面固定连接,所述第一弹簧的另一端与移动座固定连接。
作为优选,所述箱体上开设有两个对称分布的安装槽,每个所述安装槽的内侧固定连接有固定轴,所述固定轴的外部转动连接有滑辊,两个所述滑辊均与薄膜接触,所述箱体的内侧底部固定连接有热力箱,所述热力箱的上端固定连接有烘干管,所述烘干管贯穿箱体,所述箱体的内侧底部固定安装有气泵,所述气泵上固定连接有连接管,所述连接管远离气泵的一端与热力箱固定连接,所述气泵上固定连接有进气管,所述进气管贯穿箱体。
作为优选,所述烘干管远离热力箱的一端固定连接有导流罩,所述导流罩为硅胶材质。
作为优选,所述热力箱的内壁固定连接保温层,所述保温层为橡塑海绵。
作为优选,所述热力箱的内侧安装有电加热管,所述热力箱的内侧壁固定连接有固定块,所述固定块的内部设置有卡槽,所述卡槽的内部卡接安装板,所述安装板上设置有过滤网,所述热力箱的侧壁内部固定连接有密封套,所述密封套的内部滑动连接有安装板,所述安装板的内部开设有限位槽,所述热力箱的外部固定连接有支撑块,所述支撑块的内部滑动连接有限位杆,所述限位杆的一端与限位槽滑动连接,所述限位杆的另一端固定连接有拉块,所述拉块与支撑块接触。
作为优选,所述限位杆的外部通过螺纹连接有限位环,所述限位杆的外部套接有第二弹簧。
作为优选,所述第二弹簧的一端接触有支撑块,所述第二弹簧的另一端接触有限位环。
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