[发明专利]一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构

摘要

本发明公开了一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，包括工作台，所述工作台上焊接有支脚，所述支脚有四个，四个所述支脚均匀分布在工作台的四个拐角，所述工作台上开设有限位孔，所述限位孔内滑动套接有螺纹杆，所述螺纹杆上焊接有转盘，所述工作台上固定安装有镀膜机，所述工作台上焊接有两个侧板，两个所述侧板对称分布在工作台上，两个所述侧板上焊接有支撑板，所述支撑板靠近工作台的一端焊接有两个支撑座，两个所述支撑座对称分布在支撑板上，两个所述支撑座内滑动套接有正反转螺纹丝杆。本发明涉及一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，具有薄膜平整度高和装置镀膜效率更高的特点。