[发明专利]一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构

权利要求书

1.一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)上焊接有支脚(2)，所述支脚(2)有四个，四个所述支脚(2)均匀分布在工作台(1)的四个拐角，所述工作台(1)上开设有限位孔(3)，所述限位孔(3)内滑动套接有螺纹杆(4)，所述螺纹杆(4)上焊接有转盘(5)，所述工作台(1)上固定安装有镀膜机(16)，所述工作台(1)上焊接有两个侧板(17)，两个所述侧板(17)对称分布在工作台(1)上，两个所述侧板(17)上焊接有支撑板(18)，所述支撑板(18)靠近工作台(1)的一端焊接有两个支撑座(19)，两个所述支撑座(19)对称分布在支撑板(18)上，两个所述支撑座(19)内滑动套接有正反转螺纹丝杆(20)，所述正反转螺纹丝杆(20)的外侧设置有防滑套(21)。

2.根据权利要求1所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述转盘(5)的一端接触连接有工作台(1)，所述转盘(5)远离螺纹杆(4)的一端焊接有把手(6)，所述螺纹杆(4)的外侧通过螺纹连接有连接板(8)，所述连接板(8)上焊接有两个套筒(9)，两个所述套筒(9)对称分布在连接板(8)上，所述工作台(1)内滑动套有套筒(9)，每个所述套筒(9)上开设有支撑孔(10)，每个所述支撑孔(10)内滑动套接有伸缩杆(11)，所述伸缩杆(11)的下端焊接有限位块(12)，所述套筒(9)内设置有弹簧(13)，所述弹簧(13)的一端接触连接有套筒(9)，所述弹簧(13)的另一端接触连接有限位块(12)，两个所述伸缩杆(11)远离限位块(12)的一端转动连接有支撑轴(14)，所述支撑轴(14)上设置有支撑辊(15)。

3.根据权利要求1所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述螺纹杆(4)的末端焊接有挡块(7)，所述挡块(7)靠近工作台(1)的一端接触连接有连接板(8)。

4.根据权利要求1所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述正反转螺纹丝杆(20)的外侧通过螺纹连接有两个滑杆(22)，两个所述滑杆(22)对称分布在正反转螺纹丝杆(20)上，所述支撑板(18)上开设有两个滑槽(23)，两个所述滑槽(23)对称分布在支撑板(18)上，每个所述滑槽(23)内滑动连接有滑杆(22)，所述支撑板(18)远离工作台(1)的一端滑动连接有两个滑板(24)，两个所述滑板(24)对称分布在支撑板(18)上，每个所述滑板(24)靠近工作台(1)的一端开设有导向槽(25)，所述导向槽(25)内滑动连接有滑杆(22)，所述导向槽(25)内设置有导杆(26)，所述导杆(26)的两端焊接在滑板(24)上，所述导杆(26)的外侧设置有压簧(28)，所述滑板(24)远离支撑板(18)的一端焊接有安装板(29)。

5.根据权利要求4所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述滑杆(22)上开设有导向孔(27)，所述导向孔(27)内滑动套接有导杆(26)。

6.根据权利要求4所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述压簧(28)的一端接触连接有滑杆(22)，所述压簧(28)的另一端接触连接有滑板(24)。

7.根据权利要求4所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述安装板(29)上固定安装有电机(30)，所述电机(30)上设置有转轴(31)，所述安装板(29)内转动连接有转轴(31)，所述转轴(31)远离电机(30)一端的外侧套接有连接套(32)，所述连接套(32)远离电机(30)的一端焊接有带轮(34)，所述带轮(34)的外侧套接有第一皮带(35)，所述安装板(29)内转动连接有多个转动轴(36)，多个所述转动轴(36)成一字排列分布在安装板(29)内，每个所述转动轴(36)的外侧固定套接有主动轮(37)，所述主动轮(37)的外侧套接有第一皮带(35)，所述转动轴(36)的末端设置有压紧辊(38)，所述转动轴(36)的外侧固定套接有从动轮(39)，所述从动轮(39)外侧套接有第二皮带(40)，多个所述从动轮(39)之间通过第二皮带(40)连接。

8.根据权利要求7所述的一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，其特征在于：所述连接套(32)的侧壁滑动套接有限位销(33)，所述转轴(31)内通过螺纹连接有限位销(33)。