[发明专利]一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构

说明书

本发明公开了一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，包括工作台，所述工作台上焊接有支脚，所述支脚有四个，四个所述支脚均匀分布在工作台的四个拐角，所述工作台上开设有限位孔，所述限位孔内滑动套接有螺纹杆，所述螺纹杆上焊接有转盘，所述工作台上固定安装有镀膜机，所述工作台上焊接有两个侧板，两个所述侧板对称分布在工作台上，两个所述侧板上焊接有支撑板，所述支撑板靠近工作台的一端焊接有两个支撑座，两个所述支撑座对称分布在支撑板上，两个所述支撑座内滑动套接有正反转螺纹丝杆。本发明涉及一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，具有薄膜平整度高和装置镀膜效率更高的特点。

技术领域

本发明属于真空镀膜技术领域，具体为一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构。

背景技术

磁控溅射镀膜是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极，并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并最终在衬底上沉积成膜的方法。采用磁控溅射技术镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高，因此，磁控溅射技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段，主要应用于光电材料、包装材料、反光材料、保温隔热材料、表面装潢材料、电气材料等。

现有技术中，多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备在使用过程中，薄膜进入设备时，不能完全展开，横向存着褶皱，对镀膜质量有影响，同时，薄膜进入设备时过于松弛，使得薄膜在设备内部容易产生相对打滑，影响镀膜效率。因此，需要对现有技术进行改进。

发明内容：

本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，解决了背景技术中提到的问题。

为了解决上述问题，本发明提供了一种技术方案：

一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜设备展平结构，包括工作台，所述工作台上焊接有支脚，所述支脚有四个，四个所述支脚均匀分布在工作台的四个拐角，所述工作台上开设有限位孔，所述限位孔内滑动套接有螺纹杆，所述螺纹杆上焊接有转盘，所述工作台上固定安装有镀膜机，所述工作台上焊接有两个侧板，两个所述侧板对称分布在工作台上，两个所述侧板上焊接有支撑板，所述支撑板靠近工作台的一端焊接有两个支撑座，两个所述支撑座对称分布在支撑板上，两个所述支撑座内滑动套接有正反转螺纹丝杆，所述正反转螺纹丝杆的外侧设置有防滑套。

作为优选，所述转盘的一端接触连接有工作台，所述转盘远离螺纹杆的一端焊接有把手，所述螺纹杆的外侧通过螺纹连接有连接板，所述连接板上焊接有两个套筒，两个所述套筒对称分布在连接板上，所述工作台内滑动套有套筒，每个所述套筒上开设有支撑孔，每个所述支撑孔内滑动套接有伸缩杆，所述伸缩杆的下端焊接有限位块，所述套筒内设置有弹簧，所述弹簧的一端接触连接有套筒，所述弹簧的另一端接触连接有限位块，两个所述伸缩杆远离限位块的一端转动连接有支撑轴，所述支撑轴上设置有支撑辊。

作为优选，所述螺纹杆的末端焊接有挡块，所述挡块靠近工作台的一端接触连接有连接板。

作为优选，所述正反转螺纹丝杆的外侧通过螺纹连接有两个滑杆，两个所述滑杆对称分布在正反转螺纹丝杆上，所述支撑板上开设有两个滑槽，两个所述滑槽对称分布在支撑板上，每个所述滑槽内滑动连接有滑杆，所述支撑板远离工作台的一端滑动连接有两个滑板，两个所述滑板对称分布在支撑板上，每个所述滑板靠近工作台的一端开设有导向槽，所述导向槽内滑动连接有滑杆，所述导向槽内设置有导杆，所述导杆的两端焊接在滑板上，所述导杆的外侧设置有压簧，所述滑板远离支撑板的一端焊接有安装板。

作为优选，所述滑杆上开设有导向孔，所述导向孔内滑动套接有导杆。

作为优选，所述压簧的一端接触连接有滑杆，所述压簧的另一端接触连接有滑板。