[发明专利]一种光刻机静电消除装置在审

专利信息
申请号: 202011488399.4 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112490166A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 钟敏 申请(专利权)人: 上海图双精密装备有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/027;H05F3/00
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 党蕾
地址: 201712 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种光刻机静电消除装置,属于半导体静电消除领域,应用于晶圆传输过程中去除晶圆表面的静电,包括:预对准机构,预对准机构具有一预对准台;传输通道,传输通道内设有一导轨,导轨的一端固定连接于预对准台的一侧;晶圆传输载台,晶圆传输载台设置于导轨上,用于放置晶圆,并沿着导轨的方向传输;工作台,设置于传输通道的上方;静电消除装置,固定设置于工作台上,且位于传输通道的下方。本技术方案具有如下优点或有益效果:通过将静电消除装置设置于光刻机的工作台上,且静电消除装置位于晶圆传输载台的上方,在晶圆传输过程中,去除晶圆表面的静电,避免忘记去除静电,导致晶圆表面损坏,以提高晶圆的成品率。
搜索关键词: 一种 光刻 静电 消除 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海图双精密装备有限公司,未经上海图双精密装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011488399.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top