[发明专利]一种光刻机静电消除装置在审
申请号: | 202011488399.4 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112490166A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 钟敏 | 申请(专利权)人: | 上海图双精密装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/027;H05F3/00 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 党蕾 |
地址: | 201712 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻机静电消除装置,属于半导体静电消除领域,应用于晶圆传输过程中去除晶圆表面的静电,包括:预对准机构,预对准机构具有一预对准台;传输通道,传输通道内设有一导轨,导轨的一端固定连接于预对准台的一侧;晶圆传输载台,晶圆传输载台设置于导轨上,用于放置晶圆,并沿着导轨的方向传输;工作台,设置于传输通道的上方;静电消除装置,固定设置于工作台上,且位于传输通道的下方。本技术方案具有如下优点或有益效果:通过将静电消除装置设置于光刻机的工作台上,且静电消除装置位于晶圆传输载台的上方,在晶圆传输过程中,去除晶圆表面的静电,避免忘记去除静电,导致晶圆表面损坏,以提高晶圆的成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 静电 消除 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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