[发明专利]一种铝加铬薄膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202011476730.0 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112626453B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 陈翻;秦键;沙昭;王峰;王永杰;刘平 申请(专利权)人: 武汉正源高理光学有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/35
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王术娜
地址: 430223 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种铝加铬薄膜及其制备方法和应用,属于光学膜系技术领域。本发明的铝加铬薄膜包括在基底单侧表面上依次层叠的Al2O3膜、Al膜和CrON膜;所述Al2O3膜与基底接触;所述CrON膜中Cr、O和N的原子个数比为6:1:(2~3)。本发明将Al2O3层设置在基材和Al膜之间,利用Al2O3膜层具有应力过渡层的特点,解决Al膜和玻璃基底由于应力差异导致的膜层附着力差的问题;本发明利用特定原子比例的CrON膜层具有高致密性的特点,保护Al膜层不易被大气环境侵蚀,从而具有良好的稳定性及耐腐蚀性;此外,本发明的铝加铬薄膜还具有易光刻的优点,光刻制图最小分辨率为±0.5微米。
搜索关键词: 一种 铝加铬 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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