[发明专利]一种防静电紫外反射膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011469123.1 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112666646A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 徐嶺茂;何延春;李坤;王虎;熊玉卿;左华平;王洁冰;李学磊;高恒蛟;杨淼;周超 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: G02B5/26 分类号: G02B5/26;G02B5/20;G02B5/28;G02B1/16;G02B5/08
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 代丽;郭德忠
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种防静电紫外反射膜及其制备方法,所述反射膜达到优良技术指标:在280~430nm谱段具有91.6%的高反射率,同时表面任意两点间电阻≤10kΩ,可满足航天器紫外线防护及防静电的要求。其中,采用高折射率的氧化钽膜层和低折射率的氧化硅膜层交替叠加组成,膜层数较少,膜层厚度能够满足在较薄基底表面上的镀制要求,所述防静电紫外反射膜能够满足航天器紫外防护的使用要求。本发明防静电紫外反射膜的制备方法,通过选择适当的制备材料和条件可制得本发明所述的反射膜。
搜索关键词: 一种 静电 紫外 反射 及其 制备 方法
【主权项】:
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