[发明专利]真空压力控制系统在审
| 申请号： | 202011460261.3 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN113062989A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 早濑雄太郎 | 申请（专利权）人： | CKD株式会社 |
| 主分类号： | F16K1/36 | 分类号： | F16K1/36;F16K1/32;F16K27/02;F16K31/122;F16K37/00;F16K51/02 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 王程 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空压力控制系统。在能够容易地计算为了使真空室的压力值为目标值而需要的真空控制阀的最佳阀开度的真空压力控制系统中，控制装置(70)包括映射程序(702a)，在进行压力值控制前，该映射程序(702a)使真空室(11)内的压力值与工艺气体的流量的关系近似于一次函数(LF11)～(LF20)，使一次函数(LF11)～(LF20)存储到控制装置(70)中，该控制装置(70)包括阀开度计算程序(702b)，在进行压力值控制前，在基于一次函数(LF11)～(LF20)供给工艺气体的规定的流量时，该阀开度计算程序(702b)计算为了使真空室(11)内的压力值为目标值(Pt)而需要的真空控制阀(30)的最佳阀开度(VO)，该控制装置(70)基于最佳阀开度(VO)来调整真空控制阀(30)的阀开度，由此能够进行控制以使真空室(11)内的压力值为目标值(Pt)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 压力 控制系统 | ||
【主权项】：
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