[发明专利]真空压力控制系统在审

专利信息
申请号: 202011460261.3 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN113062989A 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 早濑雄太郎 申请(专利权)人: CKD株式会社
主分类号: F16K1/36 分类号: F16K1/36;F16K1/32;F16K27/02;F16K31/122;F16K37/00;F16K51/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 王程
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 真空 压力 控制系统
【权利要求书】:

1.一种真空压力控制系统,其以串联连接的方式包括:气体供给源;真空室,其从所述气体供给源接受气体的供给;真空控制阀,其用于调整所述真空室的压力值;以及真空泵,其用于对所述真空室进行减压,并且该真空压力控制系统包括:压力传感器,其检测所述真空室的压力值;以及控制装置,其控制所述真空控制阀,所述真空压力控制系统的特征在于,在从所述气体供给源向所述真空室以规定的流量供给气体时,所述控制装置基于由所述压力传感器检测出的压力值来进行所述真空控制阀的阀开度的调整,由此进行压力值控制,以使所述真空室的压力值为目标值,

在该真空压力控制系统中,

所述控制装置包括映射程序,在进行所述压力值控制前,该映射程序使所述真空室内的压力值与所述气体的流量的关系近似于一次函数,使所述一次函数存储到所述控制装置中,

所述控制装置包括阀开度计算程序,在进行所述压力值控制前,在基于所述一次函数供给所述气体的所述规定的流量时,该阀开度计算程序计算为了使所述真空室内的压力值为所述目标值而所需的所述真空控制阀的最佳阀开度,

所述控制装置基于所述最佳阀开度来调整所述真空控制阀的阀开度,由此能够进行控制以使所述真空室内的压力值为所述目标值。

2.根据权利要求1所述的真空压力控制系统,其特征在于,

在进行所述压力值控制前,在所述真空控制阀的、规定阀开度下从所述气体供给源向所述真空室通过由所述映射程序确定的测定用流量来供给所述气体的状态下,所述映射程序从所述压力传感器获取所述规定阀开度下的所述真空室的压力测定值,

所述映射程序基于所述测定用流量和所述压力测定值,求取在所述规定的阀开度下使截距为零而通过所述压力测定值的所述一次函数。

3.根据权利要求1或2所述的真空压力控制系统,其特征在于,

在进行所述压力值控制前、在所述规定的阀开度下将所述规定的流量的所述气体向所述真空室供给的状态下,所述阀开度计算程序利用所述压力传感器获取所述真空室内的第二压力测定值,

所述阀开度计算程序将所述第二压力测定值代入所述一次函数,由此计算所述气体的估计流量,

所述阀开度计算程序将所述目标值作为使截距为零的所述估计流量的一次函数,求取该一次函数的斜率,根据所述斜率求取所述规定的流量下的所述最佳阀开度。

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