[发明专利]适用3.7-4.8μm波段的高光学性能强环境适应性减反膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202011443914.7 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112505802A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 张友良;李刚;董力;谢启明;吴栋才;彭浪;孙晨;陈晓东 | 申请（专利权）人： | 云南北方驰宏光电有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;C23C14/30;C23C14/26;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京东灵通专利代理事务所(普通合伙) 61242 | 代理人： | 王荣 |
| 地址： | 655000 *** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： |
本发明涉及红外镀膜技术领域，尤其涉及适用3.7‑4.8μm波段的高光学性能强环境适应性减反膜及其制备方法，包括从下至上的基底层、空气层，和设置于基底层、空气层之间的膜层结构基底层的材料为Ge、Si、ZnS、ZnSe中的一种；膜层结构为多层膜层，从下至上为依次连接的Ge层、ZnS层、Ge层、ZnS层、YbF |
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| 搜索关键词： | 适用 3.7 4.8 波段 光学 性能 环境 适应性 减反膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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