[发明专利]材料沉积系统及相关方法、微电子装置及存储器装置在审

专利信息
申请号: 202011441977.9 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN113025970A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: C·雅各布;R·L·埃利奥特;C·W·佩茨 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/35;H01L27/105
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请案涉及材料沉积系统、形成微电子装置的方法、微电子装置及存储器装置。一种材料沉积系统包括:掺杂剂源,其含有至少一种掺杂剂前驱体材料;惰性气体源,其含有至少一种惰性气体;及物理气相沉积设备,其与所述掺杂剂源及所述惰性气体源选择性流体连通。所述物理气相沉积设备包括外壳结构、目标电极及衬底固持器。所述外壳结构经配置及定位以接收包括所述至少一种掺杂剂前驱体材料及所述至少一种惰性气体的至少一个供给流体流。所述目标电极在所述外壳结构内且与信号发生器电连通。所述衬底固持器在所述外壳结构内且与所述目标电极间隔开。还描述一种形成微电子装置的方法、一种微电子装置、一种存储器装置及一种电子系统。
搜索关键词: 材料 沉积 系统 相关 方法 微电子 装置 存储器
【主权项】:
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