[发明专利]一种纵向磁场真空灭弧室触头在审

专利信息
申请号: 202011431717.3 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112420444A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 修士新;贾申利;屈宸辰;韦乐铭;杨金望;姜雨孜 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 贺小停
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供的一种纵向磁场真空灭弧室触头,包括一对导电杆、一对触头杯和一对触头片,其中每个触头杯的杯口和杯底分别设置有一个触头片和一个导电杆;同时,两个触头杯杯口相对布置;每个触头杯杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽,且两个触头杯杯底开设的第一槽的螺旋方向相同;每个触头杯杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽,且两触头杯杯壁的开槽方向相同;每个触头片边缘沿圆周方向开设有呈螺旋状分布的第二槽,且触头片开槽与触头杯杯壁上的斜槽槽口对齐;本发明涉及的真空灭弧室触头结构的纵向磁场强度最大值由中心移至边缘区域,真空电弧则在靠近磁场较强的触头边缘区域燃烧,有利于弧后带电离子的扩散及介质强度的恢复。
搜索关键词: 一种 纵向 磁场 真空 灭弧室触头
【主权项】:
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