[发明专利]一种提高特征X射线强度值的测试方法在审

专利信息
申请号: 202011406792.4 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112730495A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 杨水源;崔继强;蒋少涌;张若曦 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: G01N23/2252 分类号: G01N23/2252
代理公司: 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 代理人: 龚春来
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种提高特征X射线强度值的测试方法,包括:利用电子探针不同波谱仪上的多个分光晶体,形成待测元素的测试系统,同时测试同一个待测元素;获取标准样品中待测元素的总净计数;获取待测样品中待测元素的总净计数;根据标准样品中待测元素的总净计数、待测样品中待测元素的总净计数与标准样品中待测元素的浓度计算待测样品中待测元素的浓度;根据待测样品中待测元素在各个分光晶体上的背景强度,获取待测样品中待测元素的总背景强度,进而计算待测元素的检测限。本发明可以提高Iunk值,降低测试的检测限,或者在不改变Iunk值的前提下降低测试电流避免造成待测样品被破坏而发生元素迁移的现象。
搜索关键词: 一种 提高 特征 射线 强度 测试 方法
【主权项】:
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