[发明专利]磁记录介质及其制造方法以及磁存储装置有效
申请号: | 202011381766.0 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN113053423B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 福岛隆之;张磊;徐晨;柴田寿人;山口健洋;小柳浩;梅本裕二 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/851 | 分类号: | G11B5/851;G11B5/82;G11B5/706 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;朝鲁门 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供一种能够使磁性层的(001)取向性提高的磁记录介质,磁记录介质(100)依次具有基板(1)、基底层(2)以及磁性层(30),基底层(2)具有第一基底层(21),该第一基底层包括由通式MgO |
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搜索关键词: | 记录 介质 及其 制造 方法 以及 存储 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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