[发明专利]MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置有效
| 申请号： | 202011365961.4 | 申请日： | 2020-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN112327583B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 金永斌;贺涛;丁宁;朱伟 | 申请（专利权）人： | 法特迪精密科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置属于精密半导体技术领域；所述MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置包括主光源、窗口板、多孔转盘、固定板、凸透镜、保护膜、基板、副光源、棱镜和光电开关；主光路上沿光线传播方向依次设置主光源、窗口板、多孔转盘、固定板、凸透镜、保护膜和基板；副光路上沿光线传播方向依次设置副光源、棱镜和光电开关；本发明MEMS探针测试基座超精密光刻定位装置，通过采用一种全新的光学定位手段，能够在制作探针测试基座的基板上实现亚微米级光学定位。 | ||
| 搜索关键词： | mems 探针 测试 基座 精密 光刻 定位 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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