[发明专利]形成包含包括支柱结构的装置结构的设备的方法,以及相关存储器装置及电子系统有效

专利信息
申请号: 202011353594.6 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN113053895B 公开(公告)日: 2023-02-07
发明(设计)人: 郭松;山·D·唐;胡申;李岩;N·R·塔皮亚斯 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H10B12/00 分类号: H10B12/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请案涉及形成包含包括支柱结构的装置结构的设备的方法,以及相关存储器装置及电子系统。形成设备的所述方法包括形成从基底材料延伸的支柱结构。所述支柱结构的上部分可展现相对大于所述支柱结构的下部分的横向宽度的横向宽度。所述方法还包括横向邻近所述支柱结构的所述下部分形成存取线且在所述支柱结构的上表面上方形成数字线。
搜索关键词: 形成 包含 包括 支柱 结构 装置 设备 方法 以及 相关 存储器 电子 系统
【主权项】:
暂无信息
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