[发明专利]抑制电磁干扰及漏波的结构、射频电源及等离子刻蚀设备在审

专利信息
申请号: 202011332509.8 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112151351A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 陈浩;胡琅;姚龙;马聪伟 申请(专利权)人: 季华实验室
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 代理人: 陈志超;唐敏珊
地址: 528200 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种抑制电磁干扰及漏波的结构、射频电源及等离子刻蚀设备,通过在射频电源壳体的所有内壁上采用金属化的蜂窝状网络凹腔阵列,当干扰信号入射到蜂窝凹腔结构时,会对干扰信号功率产生衰减,并会产生多重反射及散射,从而抑制射频电源对外部的电磁干扰扰动及漏波危害,满足射频电源壳体对电磁干扰及漏波屏蔽的要求。
搜索关键词: 抑制 电磁 干扰 结构 射频 电源 等离子 刻蚀 设备
【主权项】:
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