[发明专利]一种深台面型光电子器件及其电极光刻制备方法

摘要

本申请涉及一种深台面型光电子器件及其电极光刻制备方法，方法包括步骤：加工形成深台面刻蚀器件；在深台面刻蚀器件上匀涂第一层反转光刻胶，并进行第一次坚膜烘烤，使第一层反转光刻胶固化；在第一层反转光刻胶上匀涂第二层反转光刻胶，并进行第二次坚膜烘烤，以使所有光刻胶的厚度覆盖吸收区的侧壁；依次完成掩膜曝光、反转烘烤、泛曝光及显影工艺，形成碗状结构的光刻胶；依次进行金属生长沉积、金属lift‑off，得到电极光刻后的深台面型光电子器件。本申请提供的深台面型光电子器件的电极光刻制备方法，有效解决了因侧壁光刻胶覆盖不足导致器件短路失效的问题，同时改善了电极lift‑off工艺良率。