[发明专利]MOCVD沉积物的清理装置

摘要

本发明涉及清理装置技术领域，且公开了MOCVD沉积物的清理装置，包括底座、反应腔和腔盖，反应腔固定设置于底座的上表面，腔盖设置于反应腔的顶部，底座的上表面中心处固定设有U型支撑板，U型支撑板的内部设有旋转板，旋转板的侧壁通过转轴转动设置于U型支撑板的内部，旋转板的上侧固定设有反应台，底座的上表面左侧固定设有第一U型块，第一U型块的内部通过第一轴销转动设置有气缸，气缸的活塞杆末端通过第二轴销转动设置有第二U型块，第二U型块固定设置于反应台的下表面左侧，反应台的上表面设有U型刮板。本发明便于将反应后的沉积物清理，降低了工作人员的劳动强度，且不会出现水汽、氧气等吸附在腔体的表面。