[发明专利]一种研磨垫在审
| 申请号： | 202011279771.0 | 申请日： | 2020-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN113967875A | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 钱霖 | 申请（专利权）人： | 苏州诺天美新材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 李昌霖 |
| 地址： | 215002 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨垫，涉及半导体制造领域，包括研磨垫底层、位于研磨垫底层上的多个沟槽、位于研磨垫底层上的多个导流槽；所述多个沟槽分别为同心圆设置，所述多个导流槽分别与多个沟槽交叉设置。本发明通过在研磨垫底层上交错设置导流槽和沟槽，使得研磨液能够快速、均匀的分布开来，不会造成研磨液的浪费，提高研磨的效率；通过在沟槽内设置阻流块，通过阻流块能够挡住一部分的研磨液，防止研磨液的流失，达到节约成本的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 | ||
【主权项】：
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