[发明专利]一种高亮度无色差镭射膜的制作方法在审
申请号: | 202011275365.7 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN112080767A | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 黄昭利;李世威;邓莎;杨小利 | 申请(专利权)人: | 湖南和锐镭射科技有限公司 |
主分类号: | C25D1/00 | 分类号: | C25D1/00;C25D3/12;C23C30/00;B05D7/04;B05D7/24;B05D3/00 |
代理公司: | 长沙市护航专利代理事务所(特殊普通合伙) 43220 | 代理人: | 谢新苗 |
地址: | 410100 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明具体公开了一种高亮度无色差镭射膜的制作方法,所述方法包括以下步骤:S1、通过高亮度无色差的镭射母版对基板进行电铸,获取高亮度无色差的镭射工作版;S2、通过所述镭射工作版对厚度均匀且张力稳定的基膜进行涂布,并确保基膜表面的镭射涂料涂布均匀,得到涂布膜;S3、选用版辊、压辊和机台对涂布膜进行模压处理;S4、对步骤S3中经过模压处理后的涂布膜镀铝,并根据涂布膜的耐温调整镀铝的厚度,从而得到高亮度无色差的镭射膜。本发明中镭射膜的制作方法所生产的镭射工作版和镭射膜无色差、亮度高且厚度均匀,大大降低了后面工序中上色和调色的难度,能够满足高标准要求的客户,提升了公司的市场竞争力。 | ||
搜索关键词: | 一种 亮度 色差 镭射 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南和锐镭射科技有限公司,未经湖南和锐镭射科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011275365.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种铜铅锌冶炼废水污泥解聚分散剂及其制备方法
- 下一篇:一种DPF清碳机