[发明专利]一种分体式气足

摘要

本发明公开了一种分体式气足，属于光刻设备技术领域。分体式气足包括：气足板，所述气足板的底面上开设真空槽，通过对所述真空槽抽真空提供向下的预载力；气浮机构，设于所述气足板上，用于提供向上的气浮力；预载机构，包括设于所述气足板上的预载力传递框架和设于所述预载力传递框架底部的密封板，所述密封板用于密封所述真空槽，所述预载力传递框架用于将预载力传递至所述气足板上；所述气足板与所述密封板之间设置密封分离结构，所述密封分离结构被配置为在保持所述真空槽密封的同时，实现所述密封板与所述气足板的脱离。本发明所提供的分体式气足在保证真空槽密封的同时实现了预载力传递框架的垂向解耦，有利于减少气足板的变形。