[发明专利]一种分体式气足

权利要求书

1.一种分体式气足，用于支撑运动台在工作平台上作无摩擦运动，其特征在于，所述分体式气足包括：

气足板(10)，所述气足板(10)的底面上开设真空槽(13)，通过对所述真空槽(13)抽真空提供向下的预载力；

气浮机构(20)，设于所述气足板(10)上，用于提供向上的气浮力；

预载机构(30)，包括设于所述气足板(10)上的预载力传递框架(31)和设于所述预载力传递框架(31)底部的密封板(32)，所述密封板(32)用于密封所述真空槽(13)，所述预载力传递框架(31)用于将预载力传递至所述气足板(10)上；

所述气足板(10)与所述密封板(32)之间设置密封分离结构，所述密封分离结构被配置为在保持所述真空槽(13)密封的同时，实现所述密封板(32)与所述气足板(10)的脱离；

所述密封分离结构包括：

阻隔件(33)，活动设于所述真空槽(13)的槽顶与所述密封板(32)之间；所述密封板(32)的侧壁和所述真空槽(13)的侧壁与所述阻隔件(33)的底面形成有密封槽；

密封胶(34)，填充于所述密封槽内，以实现所述真空槽(13)的密封。

2.根据权利要求1所述的分体式气足，其特征在于，所述气足板(10)上开设有由上至下依次连通的容置槽和所述真空槽(13)，以使所述气足板(10)形成中空的框体结构；所述预载力传递框架(31)设于所述容置槽内。

3.根据权利要求2所述的分体式气足，其特征在于，所述真空槽(13)的槽顶与所述容置槽的槽壁形成台阶；所述阻隔件(33)由所述真空槽(13)的侧壁水平延伸至所述台阶外。

4.根据权利要求1所述的分体式气足，其特征在于，所述阻隔件(33)为片体结构，所述阻隔件(33)的宽度大于所述密封胶(34)的宽度。

5.根据权利要求1所述的分体式气足，其特征在于，所述密封板(32)呈倒T型结构，所述密封板(32)包括连接部和密封部，所述连接部连接于所述预载力传递框架(31)的底部，所述密封部位于所述真空槽(13)内，所述阻隔件(33)设于所述密封部的顶面与所述真空槽(13)的槽顶之间。

6.根据权利要求3所述的分体式气足，其特征在于，所述容置槽包括由上至下依次贯通的第一容置槽(11)和第二容置槽(12)，所述预载力传递框架(31)位于所述第一容置槽(11)内，所述真空槽(13)的槽顶与所述第二容置槽(12)的槽壁形成所述台阶。

7.根据权利要求1所述的分体式气足，其特征在于，所述预载力传递框架(31)与所述气足板(10)通过预载力传递柱(35)连接；所述预载力传递框架(31)上设置第一凹槽(3621)，所述气足板(10)上设置第二凹槽(141)，所述第一凹槽(3621)与所述第二凹槽(141)沿着垂向间隔设置，所述预载力传递柱(35)沿轴向的两端分别活动设于所述第一凹槽(3621)和所述第二凹槽(141)中。

8.根据权利要求7所述的分体式气足，其特征在于，所述预载力传递柱(35)与所述预载力传递框架(31)的连接点、所述预载力传递柱(35)与所述气足板(10)的连接点以及所述气浮机构(20)的中心均位于同一条垂直于所述工作平台的直线上。

9.根据权利要求7所述的分体式气足，其特征在于，所述预载力传递柱(35)与所述第一凹槽(3621)的槽壁和所述第二凹槽(141)的槽壁之间均存在水平方向上的间隙。

10.根据权利要求7所述的分体式气足，其特征在于，所述预载力传递柱(35)沿轴向设置的两端面均为弧形面，所述第一凹槽(3621)的槽顶和所述第二凹槽(141)的槽底均为平面，以使所述预载力传递柱(35)与所述第一凹槽(3621)和所述第二凹槽(141)均形成点接触。