[发明专利]一种分体式气足

说明书

本发明公开了一种分体式气足，属于光刻设备技术领域。分体式气足包括：气足板，所述气足板的底面上开设真空槽，通过对所述真空槽抽真空提供向下的预载力；气浮机构，设于所述气足板上，用于提供向上的气浮力；预载机构，包括设于所述气足板上的预载力传递框架和设于所述预载力传递框架底部的密封板，所述密封板用于密封所述真空槽，所述预载力传递框架用于将预载力传递至所述气足板上；所述气足板与所述密封板之间设置密封分离结构，所述密封分离结构被配置为在保持所述真空槽密封的同时，实现所述密封板与所述气足板的脱离。本发明所提供的分体式气足在保证真空槽密封的同时实现了预载力传递框架的垂向解耦，有利于减少气足板的变形。

技术领域

本发明涉及光刻设备技术领域，尤其涉及一种分体式气足。

背景技术

在半导体的光刻设备中，通常采用气足为运动台提供气浮支撑，保证运动台在相应平台上作无摩擦运动。气足的气足板上同时设置气浮机构和预载机构，其中，气足的气浮机构提供向上的气浮力，气足的预载机构提供向下的预载力，保证了气浮平衡；气足的气浮刚度则通过改变气浮力和预载力的大小进行调节。

现有的分体式气足虽然是将气浮机构与预载机构分成了两个单独的部件，但预载机构仍需要提供一个向上的压紧力来压紧预载机构与气足板之间的密封圈，保持密封良好以方便抽真空输出预载力，即预载机构与气足板之间仍为刚性连接，预载机构产生的预载力会作用到整个气足板上会引发变形，造成气浮支撑不够稳定，运动台不能平稳运动。

发明内容

本发明的目的在于提供一种分体式气足，能够减小气足板的变形，保证稳定的气浮支撑。

为实现上述目的，提供以下技术方案：

一种分体式气足，用于支撑运动台在工作平台上作无摩擦运动，所述分体式气足包括：

气足板，所述气足板的底面上开设真空槽，通过对所述真空槽抽真空提供向下的预载力；

气浮机构，设于所述气足板上，用于提供向上的气浮力；

预载机构，包括设于所述气足板上的预载力传递框架和设于所述预载力传递框架底部的密封板，所述密封板用于密封所述真空槽，所述预载力传递框架用于将预载力传递至所述气足板上；

所述气足板与所述密封板之间设置密封分离结构，所述密封分离结构被配置为在保持所述真空槽密封的同时，实现所述密封板与所述气足板的脱离。

作为上述分体式气足的一种优选的实施方式，所述密封分离结构包括：

阻隔件，活动设于所述真空槽的槽顶与所述密封板之间；所述密封板的侧壁和所述真空槽的侧壁与所述阻隔件的底面形成有密封槽；

密封胶，填充于所述密封槽内，以实现所述真空槽的密封。

作为上述分体式气足的一种优选的实施方式，所述气足板上开设有由上至下依次连通的容置槽和所述真空槽，以使所述气足板形成中空的框体结构；所述预载力传递框架设于所述容置槽内。

作为上述分体式气足的一种优选的实施方式，所述真空槽的槽顶与所述容置槽的槽壁形成台阶；所述阻隔件由所述真空槽的侧壁水平延伸至所述台阶外。

作为上述分体式气足的一种优选的实施方式，所述阻隔件为片体结构，所述阻隔件的宽度大于所述密封胶的宽度。

作为上述分体式气足的一种优选的实施方式，所述密封板呈倒T型结构，所述密封板包括连接部和密封部，所述连接部连接于所述预载力传递框架的底部，所述密封部位于所述真空槽内，所述阻隔件设于所述密封部的顶面与所述真空槽的槽顶之间。

作为上述分体式气足的一种优选的实施方式，所述容置槽包括由上至下依次贯通的第一容置槽和第二容置槽，所述预载力传递框架位于所述第一容置槽内，所述真空槽的槽顶与所述第二容置槽的槽壁形成所述台阶。