[发明专利]一种吸气薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202011223916.5 | 申请日： | 2020-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN112323015A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 张剑;张于光;郭明哲;胡玮 | 申请（专利权）人： | 昆山联德电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 李小叶 |
| 地址： | 215326 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种吸气薄膜，其是由依次在基材表面上生长的打底层和吸气层组成，该打底层是由Cr构成，该吸气层是由Pd构成；所述打底层和吸气层均为柱状晶粒结构。本发明还公开了吸气薄膜的制备方法和应用。其中，吸气薄膜的制备方法包括如下步骤：对基材利用碳酸钠去脂剂对基材进行清洗；将清洗后的基材放置于烤箱中进行烘烤；再对基材进行辉光清洗；然后在基材上利用磁控溅射的方法沉积Cr薄膜，作为打底层；在打底层上利用磁控溅射的方法沉积Pd薄膜，作为吸气层。该吸气薄膜设置于真空腔体基材上，可以赋予腔体较好的吸气能力，能够吸收腔体内的废气，维持良好的真空度，改善基材的服役环境，减轻腐蚀以及氧化情况，提高基材使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吸气 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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