[发明专利]一种富含缺陷的钼掺杂硒化钴/纳米碳电催化剂及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202011180973.X 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112481653B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 侯阳;王淋;杨彬;雷乐成 申请(专利权)人: 浙江大学衢州研究院;浙江大学
主分类号: C25B11/054 分类号: C25B11/054;C25B11/052;C25B11/091;C25B1/04
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 324000 浙江省衢*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及电催化剂技术领域,公开一种富含缺陷的钼掺杂硒化钴/纳米碳电催化剂及其制备方法和应用,其制备方法包括如下步骤:(1)将钴盐、钼酸盐溶解后加入2‑甲基咪唑溶液,搅拌混合、离心干燥获得钼掺杂的钴基金属有机框架的前驱体;(2)将前驱体与硒粉混合,研磨后煅烧得到钼掺杂硒化钴/纳米碳电催化剂;(3)将步骤(2)制备的催化剂热处理,得到所述富含缺陷的钼掺杂硒化钴/纳米碳电催化剂。得到的催化剂在碱性条件下对于电解水阴极析氢反应具有优异的电催化活性,且长期工作下仍具有较好稳定性。
搜索关键词: 一种 富含 缺陷 掺杂 硒化钴 纳米 催化剂 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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