[发明专利]一种晶圆光刻用光罩组件在审
申请号: | 202011168186.3 | 申请日: | 2020-10-28 |
公开(公告)号: | CN112230510A | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 赵震 | 申请(专利权)人: | 临漳县澳皇网络科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 056600 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种晶圆光刻用光罩组件,其结构包括安装机构、聚焦镜、固定环、玻璃管、底座,安装机构镶嵌设于聚焦镜的上端内侧面,聚焦镜设于玻璃管的内侧端面,固定环贴合包裹在玻璃管的横向外侧端面,玻璃管嵌固安装在底座的正上方,随着图板的不断施压拉扯镶嵌机构使倒角槽与活动机构之间的距离不断远离直至倒角槽贴合在固定座的上端左右两侧,利用镶嵌机构的壁厚填充电路板与安装机构内端面之间的间隙,由于镶嵌机构皆采用橡胶材质制成,当其受拉扯或挤压时可有效产生形变避免两者间的摩擦。 | ||
搜索关键词: | 一种 圆光 用光 组件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于临漳县澳皇网络科技有限公司,未经临漳县澳皇网络科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011168186.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备