[发明专利]一种辐射成像探测器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202011101698.8 申请日: 2020-10-15
公开(公告)号: CN114371497A 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 王宗朋;陈明;王静珂;叶超;刘德健 申请(专利权)人: 深圳市安健科技股份有限公司
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29;G01T1/20;H01L27/146;F16B11/00
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 任哲夫
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种辐射成像探测器及其制作方法,其中,辐射成像探测器包括传感器、闪烁体、光纤复合结构及附加传感器,光纤复合结构包括多条光纤,传感器、闪烁体、光纤复合结构及附加传感器依次层叠设置,入射射线经闪烁体产生荧光,位于传感器一侧的荧光直接传输至传感器,位于附加传感器一侧的荧光利用波导效应经由光纤复合结构内各光纤的纤芯传输至附加传感器。本发明比传统探测器中单个传感器或镀金属反射膜对荧光的吸收值增加一倍,大幅度提高探测器的感光效率,进而提升探测器的探测效率,有效降低辐射剂量。
搜索关键词: 一种 辐射 成像 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
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