[发明专利]一种基于结构照明特征的平面图像分析的测量方法及装置在审

专利信息
申请号: 202011067327.2 申请日: 2020-10-06
公开(公告)号: CN112233162A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 彭凯;詹玮琪;王栋云;邓天平;胡国亮;丁毅;胡祺 申请(专利权)人: 武汉烽火凯卓科技有限公司;华中科技大学
主分类号: G06T7/521 分类号: G06T7/521;G06T7/543;G06T7/64;G06T7/73;G06T5/00
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 方菲
地址: 430000 湖北省武汉市洪山区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种基于结构照明特征的平面图像分析的测量方法及装置,其方法包括如下步骤:投影条纹至待测物体表面,获取待测物体的EPI图片;对所述EPI图片进行特征提取以获得线性特征明显的线段;从所述线性特征明显的线段中识别出属于同一特征点的共线线段;根据所述共线线段和EPI图像中的极平面位置、直线斜率、截距之间的关系确定所述特征点的三维场景的坐标。本发明通过对投影至物体表面的条纹结构光进行条纹分析,并利用滤波和数学分析方法去除噪声,优化基于结构照明的EPI重建结果从而来提高三维测量结果的准确度,因此在精确度、稳定性和效率上都有了一定程度的提升。
搜索关键词: 一种 基于 结构 照明 特征 平面 图像 分析 测量方法 装置
【主权项】:
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