[发明专利]一种高纯高致密碳化硅陶瓷及其制造方法在审
申请号: | 202011051209.2 | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN112159232A | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 闫永杰 | 申请(专利权)人: | 南通三责精密陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B35/573 | 分类号: | C04B35/573;C04B35/622 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 宋玲玲 |
地址: | 226000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种高纯高致密碳化硅陶瓷及其制造方法,采用不同粒度的碳化硅陶瓷粉体为主要原料,利用石墨粉和纳米炭黑为结合剂,树脂为粘结剂,采用喷雾造粒工艺均匀混合,通过干压成型、等静压成型或者浇注成型等多种成型方法得到陶瓷素胚,坯体经过干燥、固化后,采用第一次高温纯化热处理,第二次反应渗硅热处理,最后经过表面处理,获得高纯高致密碳化硅陶瓷。采用该工艺制造的碳化硅陶瓷纯度高,各种金属杂质含量低于200ppm,材料的致密度达99%以上,能够广泛应用于纯度和强度要求高的光伏、LED或者半导体应用领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 高纯 致密 碳化硅 陶瓷 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
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