[发明专利]低杂质AlV55合金的制备方法在审
申请号: | 202011039865.0 | 申请日: | 2020-09-28 |
公开(公告)号: | CN112080660A | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 尹丹凤;陈海军;高雷章;师启华 | 申请(专利权)人: | 攀钢集团研究院有限公司 |
主分类号: | C22C1/03 | 分类号: | C22C1/03;C22C27/02;C22B5/04;C22B34/22 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 张小丽 |
地址: | 610000 四川省成都市高*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: |
本发明属于冶金领域,特别涉及一种低杂质AlV55合金的制备方法。本发明所要解决的技术问题是提供一种低杂质AlV55合金的制备方法,包括以下步骤:A、将高纯V |
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搜索关键词: | 杂质 alv55 合金 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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