[发明专利]图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法在审

专利信息
申请号: 202011021526.X 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN112578631A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 尾崎太一 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84;G03F1/44
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 朱丽娟;崔成哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 提供图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法。即使在微细宽度图案中,也能稳定且高精度地进行线宽测量。向检查区域照射光,取得检查区域的透射光图像的工序;根据所取得的透射光图像,得到检查区域的光强度分布数据的工序;微分处理工序,通过对从光强度分布数据求出的光强度分布曲线进行微分处理,得到包含第1透射控制部和第2透射控制部的边界部分即第1边界、以及第2透射控制部和第3透射控制部的边界部分即第2边界的区域的光强度变化曲线;拟合工序,将得到的光强度变化曲线拟合到模型函数;以及根据拟合的结果求出第2透射控制部的尺寸的工序。
搜索关键词: 图案 检查 方法 光掩模 装置 制造
【主权项】:
暂无信息
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