[发明专利]一种具有共轭微孔结构的聚酞菁类光限幅材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202011015968.3 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN112159518A | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 王挺峰;黄文博;孙涛;汤伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 藏斌 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： |
本发明属于光限幅材料领域，具体涉及一种具有共轭微孔结构的聚酞菁类光限幅材料及其制备方法。本发明提供的聚酞菁类光限幅材料由式(i)所示重复单元构成；相邻重复单元共享苯环，形成苯撑结构；式(i)中，M为金属原子。本发明提供的聚酞菁类光限幅材料是一种具有高度离域π电子共扼结构的有机微孔聚合物，其具有良好的热稳定性和可加工性，同时显现出很强的三阶非线性光学响应，能在相当宽泛的紫外可见光谱范围内通过激发态吸收过程限制纳秒激光脉冲的强度，表现出较强的反饱和吸收和光限幅响应效果。 |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 共轭 微孔 结构 聚酞菁类光 限幅 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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