[发明专利]检测晶圆通孔缺陷的方法及装置有效

专利信息
申请号: 202011015046.2 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN112233993B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 孟春霞;张辰明;朱骏;魏芳;陈翰;孟鸿林 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01R31/28;G01N27/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭立
地址: 201315 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种直接检测通孔通断状态的方法及装置,该装置可以由碳纳米管探针组成阵列模板,通过在碳纳米管探针上加上预设数值的电压,对准并向下移动探针到达孔层底部,由于孔层完全开通或有介质层残留时,底部的材料导电性不同,这样通过探针上电压的变化就可以直接检测出通孔的通断状态,用当站直接检测的数据来反馈前面工艺参数是否合适,解决目前孔层检测在填充金属后才可以检测,反馈滞后的问题。
搜索关键词: 检测 圆通 缺陷 方法 装置
【主权项】:
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