[发明专利]储层水平缝发育程度评价方法、装置、电子设备及介质在审

专利信息
申请号: 202010969881.3 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN114185092A 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 刘炯;刘喜武;刘宇巍;刘志远;钱恪然;刘兰峰 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院
主分类号: G01V1/30 分类号: G01V1/30
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 孙向民;廉莉莉
地址: 100027 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种储层水平缝发育程度评价方法、装置、电子设备及介质。该方法可以包括:将原始偏移距道集转换为地震角道集;针对地震角道集进行AVA反演,计算各向异性参数的变化项;根据各向异性参数的变化项,计算目的层的VTI介质Thomsen参数;根据目的层的VTI介质Thomsen参数,评价储层水平缝发育程度。本发明通过VTI介质纵波反射系数公式结合Gardner关于速度、密度的公式,反演页岩油气储层各向异性参数,评价水平裂缝的发育程度,预测油气储层的甜点。
搜索关键词: 水平 发育 程度 评价 方法 装置 电子设备 介质
【主权项】:
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