[发明专利]一种近场散射特性建模方法、电子设备及存储介质有效
| 申请号： | 202010947214.5 | 申请日： | 2020-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN112069713B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 高伟;米晓林;廖意;张玉涛 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 周乃鑫;包姝晴 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种近场散射特性建模方法、电子设备及存储介质，所述方法包括：根据目标几何模型的曲率特性，采用非均匀网格剖分方法对所述目标几何模型进行网格划分。根据发射天线辐射特性分布，计算入射到所述目标几何模型表面的入射场，所述入射场的场强追踪每根入射线直至入射线出射。根据接收天线辐射特性分布，结合接收天线极化方式，获取接收天线位置处的每根出射射线的近场散射特性贡献。本发明考虑了入射波极化分量和接收天线接收特性，获取的近场特性包含了径向分量，完善了近场信息，是一种精确高效的仿真技术手段。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 近场 散射 特性 建模 方法 电子设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海无线电设备研究所，未经上海无线电设备研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010947214.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
