[发明专利]沉积装置在审
| 申请号： | 202010914917.8 | 申请日： | 2020-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN112442656A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 朴国喆;吴守贤;鲁硕原 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 张红霞;周艳玲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 沉积装置可以包括腔室、在腔室中的坩埚、覆盖坩埚的盖部件以及从盖部件突出并沿第一方向布置的2n个喷嘴(这里‘n’是正整数)。在2n个喷嘴中，第n个喷嘴和第n+1个喷嘴之间的距离可以大于第2n‑1个喷嘴和第2n个喷嘴之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010914917.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
