[发明专利]一种电光晶体薄膜及其制备方法，及电光调制器在审
| 申请号： | 202010865004.1 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN111965856A | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 张秀全;刘桂银;王金翠;李真宇;杨超;连坤 | 申请（专利权）人： | 济南晶正电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/035 | 分类号： | G02F1/035;G02F1/03;G02B6/122;G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 250100 山东省济南市高新区港*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本申请提供一种电光晶体薄膜及其制备方法，及电光调制器，其中，所述电光晶体薄膜从下到上依次包括：硅衬底层、二氧化硅层、硅波导层、包覆隔离层和功能薄膜层；所述包覆隔离层的折射率低于所述功能薄膜层的折射率，所述包覆隔离层做平坦化处理，且可与所述功能薄膜层键合。本申请采用包覆隔离层代替现有技术中的粘接剂层，一方面，包覆隔离层能够进行平坦化处理，使得靠近功能薄膜层一侧的表面粗糙度减小，能够减少漫反射，从而减少光传输损耗；另一方面，包覆隔离层与功能薄膜层之间以键合的形式结合，保证功能薄膜层的均匀性和完整性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电光 晶体 薄膜 及其 制备 方法 调制器 | ||
【主权项】：
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