[发明专利]一种电子级TFT光阻剥离液的制备工艺有效
| 申请号： | 202010862764.7 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN111999994B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 陈重佑;陈少骏;邱建铭;吴俊贤;骆彦成;吴全贵;林德荣;任建业 | 申请（专利权）人： | 福建天甫电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 | 代理人： | 徐东峰 |
| 地址： | 364000 福建省龙岩*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明属于薄膜晶体管加工技术领域，提供了一种电子级TFT光阻剥离液的制备工艺。该电子级TFT光阻剥离液的制备工艺包括将剥离液的原料混合后过滤即得；原料包括：有机胺、二甲基亚砜、二乙二醇单丁醚、N‑甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺、四甲基氢氧化铵以及羟胺。由该制备工艺制备得到的光阻剥离液质量稳定，对各种芯片具有良好的光刻胶剥离和溶解能力，能够完全去除光刻胶，无残留。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子 tft 剥离 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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