[发明专利]一种气体流量调节装置和调节方法及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202010858525.4 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN114093739A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 赵军;涂乐志 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;周乃鑫 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种气体流量调节装置和调节方法及等离子体处理装置，气体流量调节装置包含气体挡板和设置在气体挡板上的多个可升降隔离组件，隔离组件对底板与安装基板之间形成的圆形气体分配区域和环形气体分配区域的面积进行动态调节，从而使圆形气体分配区域和/或环形气体分配区域对应的区域的等离子体处理速率与其他区域达到一致。本发明可以适用于不同的化学气体环境和不同的气体比例，令不同的气体分配区域面积对应不同的化学气体环境和不同的气体比例，大大提高了对等离子体处理速率进行调节的灵活性、灵敏度和准确性，提高了等离子体处理速率的均匀性，且操作简单，提高了设备的适用度，缩短了工艺调试周期。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 气体 流量 调节 装置 方法 等离子体 处理 | ||
【主权项】：
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