[发明专利]用于制作光转换层的方法和装置在审
| 申请号： | 202010856890.1 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN114093999A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 顾铁成;刁鸿浩 | 申请（专利权）人： | 北京芯海视界三维科技有限公司;视觉技术创投私人有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/50 | 分类号： | H01L33/50;H01L27/15 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100055 北京市西城区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请涉及显示技术领域，公开了一种用于制作光转换层的方法，包括：在发光单元层的透光区域设置掩膜图形；在发光单元层的未被掩膜图形覆盖的区域设置金属栅格结构。本申请提供的用于制作光转换层的方法，能够为光转换层中的各像素提供有效隔离/支撑，有利于光转换层正常发挥功能，尽量避免光转换效果受到影响。本申请还公开了一种用于制作光转换层的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制作 转换 方法 装置 | ||
【主权项】：
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