[发明专利]MEMS麦克风的制造方法有效
| 申请号： | 202010846382.5 | 申请日： | 2020-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN111741423B | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 闾新明;魏丹珠;艾俊 | 申请（专利权）人： | 中芯集成电路制造（绍兴）有限公司 |
| 主分类号： | H04R31/00 | 分类号： | H04R31/00;H04R19/04;H04R19/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 312000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种MEMS麦克风的制造方法，在依次形成引出电极层和光刻胶层后，先对光刻胶层进行第一次曝光，定义出待形成引出电极的区域，然后针对声孔区域进行第二次曝光，在对光刻胶层显影后，能够将声孔以及其他区域的多余光刻胶层去除，仅保留待形成引出电极的区域中的光刻胶层，避免了显影后声孔有未被曝光的光刻胶残留，当继续以图案化的光刻胶层为掩膜，蚀刻引出电极层而形成引出电极时，声孔中的引出电极层也能够被去除，避免了声孔中的引出电极层残留，进而能够解决在牺牲层去除后，因声孔底部的引出电极层残留黏到空腔内表面上，而造成MEMS麦克风缺陷的问题，改善了产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | mems 麦克风 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯集成电路制造（绍兴）有限公司，未经中芯集成电路制造（绍兴）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010846382.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
