[发明专利]用于表面检查的成像系统在审

专利信息
申请号: 202010788623.5 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN112345549A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: S·金;Y·程 申请(专利权)人: 金宝电子印第安纳公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01M11/00;G01B11/30;G02B27/10;G02B27/28;G02B27/30
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 周学斌;申屠伟进
地址: 美国印*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种成像系统和方法评估反射式显示器中的不均匀性或不规则性,该反射式显示器诸如是在智能电话、平板设备等等中发现的类型的组装的显示模块。该系统包括被偏振和准直的非相干光,诸如发光二极管(LED)。要评估的表面垂直于准直光,使得光直接撞击在表面上。光的偏振在反射之前和之后被更改,并且来自受评估的表面的反射光由传感器接收。表面的不均匀性或不规则性将作为对比度变化出现在感测图像中。因为来自受评估的表面的反射是180度反射,所以感测图像可以跨要评估的整个表面清晰聚焦。可选地,为了效率和紧凑度,该系统可以利用没有收集透镜的单个准直透镜。
搜索关键词: 用于 表面 检查 成像 系统
【主权项】:
暂无信息
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