[发明专利]套刻偏差值的修正方法、电子设备及计算机可读存储介质有效

专利信息
申请号: 202010746691.5 申请日: 2020-07-29
公开(公告)号: CN112015056B 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 张利斌;韦亚一;冯耀斌;陆聪 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;长江存储科技有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G06F17/10
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 刘广达
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种套刻偏差值的修正方法、电子设备及计算机可读存储介质。该方法包括:提供一包含多个曝光区域的晶圆;选择若干曝光区域,从所选的曝光区域中确定若干待测套刻标识;对每一待测套刻标识的图像进行多次计算,获得若干套刻偏差测量值;计算套刻偏差测量值的平均值和标准差,分别以平均值和标准差作为套刻偏差值和测量误差值;根据各测量误差值的大小设置与其呈负相关的权重;利用各测量误差值和设置的权重对各套刻偏差值进行加权赋值修正。本申请的方法将套刻偏差测量值的平均值和标准差分别作为套刻偏差值和测量误差值,基于测量误差值对套刻偏差进行了修正,在计算套刻修正参数时充分考虑测量误差的影响,提升了套刻修正准确性。
搜索关键词: 偏差 修正 方法 电子设备 计算机 可读 存储 介质
【主权项】:
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