[发明专利]用于可见光通信的GaN基LED外延结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010731387.3 申请日: 2020-07-27
公开(公告)号: CN111816742A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 赵丽霞;林杉 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于可见光通信的GaN基LED外延结构及其制备方法。包括衬底;缓冲层,位于所述衬底上;n型GaN层,位于所述缓冲层上;n型AlGaN电子阻挡层,位于所述n型GaN层上;InGaN/GaN多量子阱有源区,位于所述n型AlGaN电子阻挡层上;p型GaN层,位于所述InGaN/GaN多量子阱有源区上。本发明提供的LED外延结构降低了电子阻挡层对空穴注入量子阱的阻碍作用,提高了空穴注入效率;并且该LED外延结构还可以提高辐射复合系数,从而同时提高最高光功率和最大调制带宽。
搜索关键词: 用于 可见 光通信 gan led 外延 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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